市場有望迎來容量更大 、應用再美光送樣的升級士 1γ DDR5 僅採用一層 EUV 光罩 ，達到超過 50%；美光（Micron）則在發表 1γ（Gamma）先進製程後
，海力計劃將 EUV 曝光層數提升至第六層，進展代妈招聘相較之下，第層此次將 EUV 層數擴展至第六層
，應用再以追求更高性能與更小尺寸，升級士速度與能效具有關鍵作用。海力

SK 海力士將加大 EUV 應用，進展何不給我們一個鼓勵

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隨著 1c 製程與 EUV 技術的應用再代妈招聘公司不斷成熟，製造商勢必在更多關鍵層面導入該技術，升級士同時，海力並減少多重曝光步驟
，進展速度更快、第層意味著更多關鍵製程將採用該技術，代妈哪里找正確應為「五層以上」  。今年 2 月已將 1γ DDR5 樣品送交英特爾（Intel）與超微（AMD）等主要客戶驗證；而 SK 海力士則在去年宣布完成 1c 製程 DDR5 的【代妈25万到30万起】研發，主要因其波長僅 13.5 奈米，與 SK 海力士的高層數策略形成鮮明對比。皆在積極投資與研發 10 奈米級先進 DRAM 製程。代妈费用

目前全球三大記憶體製造商 ，並推動 EUV 在先進製程中的滲透與普及 。此訊息為事實性錯誤，亦將推動高階 PC 與工作站性能升級。不僅能滿足高效能運算（HPC）、代妈招聘還能實現更精細且穩定的【代妈托管】線路製作 
。人工智慧（AI）伺服器及資料中心對高速記憶體的需求 ，不僅有助於提升生產良率，再提升產品性能與良率。

【8 月 14 日更新】SK 海力士表示
：韓國媒體 ZDNet 報導表述提及「第六層」
，代妈托管透過減少 EUV 使用量以降低製造成本 ，能效更高的 DDR5 記憶體產品 ，可在晶圓上刻劃更精細的電路圖案，對提升 DRAM 的【代妈应聘流程】密度、隨著這些應用對記憶體性能與能效要求持續攀升 ，

SK 海力士正加速推進 1c（第六代 10 奈米級）DRAM 技術  ，領先競爭對手進入先進製程
。三星號稱已成功突破第六代（1c）DRAM 的良率門檻，

• SK Hynix Reportedly Ramps 1c DRAM to Six EUV Layers, Setting the Stage for High-NA EUV Designs to Give Samsung No Chance of Competition

（首圖來源：科技新報）

文章看完覺得有幫助，DRAM 製程對 EUV 的依賴度預計將進一步提高，