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浙江大學余杭量子研究院研發的度逼 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」,但由於採用「逐點書寫」(point-by-point writing)──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ,難量何不給我們一個鼓勵
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外媒報導,代妈托管中芯國際的 5 奈米量產因此受阻,至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破,仍有待觀察。【代妈招聘】
中國受美國出口管制影響 ,
為了突破 EUV 技術瓶頸 ,
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